【从UnityURP开始探索游戏渲染】专栏-直达
URP光照烘焙介绍
Unity通用渲染管线(URP)的光照烘焙系统是用于预计算全局光照(GI)的核心技术,它将静态光源的光照效果预先计算并存储在光照贴图(Lightmap)中,运行时直接采样使用以提高性能。URP支持三种光源模式:
- Realtime实时模式:
- 完全动态计算,不生成光照贴图,适用于高频移动光源或需要实时互动的场景。
- Baked烘焙模式:
- 完全离线烘焙到光照贴图中,运行时无实时计算,适合静态环境光。
- Mixed混合模式:
- 结合烘焙与实时计算的优势,包括三种子模式:
- Baked Indirect:烘焙间接光照,直接光和阴影实时计算
- Subtractive:烘焙直接光和阴影,动态物体通过Light Probe接收光照
- Shadowmask:烘焙间接光+阴影贴图,实时计算直接光
历史发展
URP的光照烘焙技术源自Unity传统的Enlighten和Progressive光照系统,经过多次迭代:
- 早期版本主要依赖Enlighten光照系统
- 2018年后引入Progressive光照烘焙器(CPU/GPU)
- URP 7.x版本开始支持StructuredBuffer优化光源处理
- 最新版本支持Shadowmask混合模式,平衡效果与性能
内部实现原理与数学公式
光照烘焙核心算法
光照烘焙主要基于辐射度算法(Radiosity)和光子映射(Photon Mapping),核心数学公式包括:
辐射传输方程:
$L_o(x,ω_o) = L_e(x,ω_o) + ∫_Ω f_r(x,ω_i,ω_o)L_i(x,ω_i)(n·ω_i)dω_i$
其中:
- $L_o$:出射辐射度
- $L_e$:自发光辐射度
- $f_r$:双向反射分布函数(BRDF)
- $L_i$:入射辐射度
- $(n·ω_i)$:余弦项
光照贴图采样:
float3 SampleLightMap(float2 lightMapUV) {#if defined(LIGHTMAP_ON)return SampleSingleLightmap(TEXTURE2D_ARGS(unity_Lightmap, samplerunity_Lightmap),lightMapUV, float4(1.0, 1.0, 0.0, 0.0),#if defined(UNITY_LIGHTMAP_FULL_HDR)false,#elsetrue,#endiffloat4(LIGHTMAP_HDR_MULTIPLIER, LIGHTMAP_HDR_EXPONENT, 0.0, 0.0));#elsereturn 0.0;#endif
}
动态物体光照处理
动态物体通过Light Probe接收烘焙光照,采样使用球谐函数(SH):
float3 SampleLightProbe(Surface surfaceWS) {#if defined(LIGHTMAP_ON)return 0.0;#elseif(unity_ProbeVolumeParams.x) {return SampleProbeVolumeSH4(TEXTURE3D_ARGS(unity_ProbeVolumeSH, samplerunity_ProbeVolumeSH),surfaceWS.position, surfaceWS.normal, unity_ProbeVolumeWorldToObject,unity_ProbeVolumeParams.y, unity_ProbeVolumeParams.z,unity_ProbeVolumeMin.xyz, unity_ProbeVolumeSizeInv.xyz);} else {float4 coefficients[7];coefficients[0] = unity_SHAr;coefficients[1] = unity_SHAg;coefficients[2] = unity_SHAb;coefficients[3] = unity_SHBr;coefficients[4] = unity_SHBg;coefficients[5] = unity_SHBb;coefficients[6] = unity_SHC;return max(0.0, SampleSH9(coefficients, surfaceWS.normal));}#endif
}
具体流程与手动计算示例
光照烘焙流程
- 场景准备:
- 标记静态物体(勾选Static)
- 生成光照贴图UV(Generate Lightmap UVs)
- 设置光源模式(Baked/Mixed)
- 烘焙参数设置:
- 间接光反弹次数(Max Bounces,通常设为5)
- 光照贴图分辨率
- 启用环境光遮蔽(AO)
- 执行烘焙:
- CPU或GPU渐进式烘焙
- 降噪处理
- 生成光照贴图和光照探针
手动计算示例
假设一个简单场景,计算某点P的烘焙光照:
直接光照计算:
$L_direct = I * max(0, n·l) / (d² + 1)$
其中:
- I:光源强度
- n:表面法线
- l:光源方向
- d:距离光源的距离
间接光照计算:
$L_{indirect} = Σ (L_{bounce} * albedo / π)$
其中:
- $L_{bounce}$:来自其他表面的反射光
- albedo:表面反射率
最终光照:
$L_{final} = L_{direct} + L_{indirect} + L_{emission}$
常见问题与优化
- 黑斑问题:因模型没有光照贴图坐标或UV重叠导致,需勾选Generate Lightmap UVs并调整Pack Margin。
- 硬边问题:因UV在光照图中比例太小,需调大Scale In Lightmap参数。
- 性能优化:
- 使用Shadowmask模式平衡效果与性能
- 控制附加光源数量(PC平台最多8个)
- 合理设置阴影距离(Shadow Distance)
URP的光照烘焙系统通过结合预计算和实时计算,在保持良好视觉效果的同时显著提升了渲染性能,特别适合移动端和中低端硬件平台
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